◆ ?7 寸彩色觸摸屏中英文互動操作界面，自動控制監測工藝參數狀態，20 個配方程序，工藝數據可存儲追溯。
◆ ?PLC 工控機控制整個清洗過程，手動、自動兩種工作模式。
◆ ?真空艙體、全真空管路系統采用?316 不銹鋼材質，耐腐蝕無污染。
◆ ?采用防腐數字流量計，??實現對氣體輸入精準控制。標配雙路氣體輸送系統，?可選多氣路氣體輸送系統，?可輸入氧氣、氬氣、?氮氣、四氟化碳、氫氣或混合氣等氣體。
◆ ?采用花灑式多孔進氣方式，改變單孔進氣不均勻問題。
◆ ?HEPA 高效過濾，氣體返填吹掃，防止二次污染。
◆ ?符合人體功能學的?60 度傾角操作界面設計，操作方便，界面友好。
◆ ?采用頂置真空艙，上開蓋設計，下壓式鉸鏈開關方式。
◆ ?上置式?360 度水平取放樣品設計，符合人體功能學，操作更方便。
◆ ?有效處理面積大，可處理最大直徑?154mm 晶元硅片。
◆ ?安全保護，艙門打開，自動關閉電源，機器運行、停止提示。
RIE反應離子刻蝕機主要用于微電子芯片、太陽能電池、生物芯片、顯示器、光學、通訊等領域的器件研發和制造。
| 型號 | RIE200 | RIE200plus |
| 艙體內尺寸 | H38xΦ260mm | H38xΦ260mm |
| 艙體容積 | 2L | 2L |
| 射頻電源 | 40KHz | 13.56MHz |
| 電極 | 不銹鋼氣浴?RIE?電極，??Φ200mm | 不銹鋼氣浴?RIE?電極，??Φ200mm |
| 匹配器 | 自動匹配 | 自動匹配 |
| 刻蝕方式 | RIE | RIE |
| 射頻功率 | 0-600W 可調（可選 0-1000W） | 0-300W 可調（可選 0-600W） |
| 氣體控制 | 質量流量計（MFC）（標配雙路，可選多路）流量范圍?0-500SCCM（可調） | |
| 工藝氣體 | Ar、N ?、O ?、H ?、CF4、CF4+?H2、CHF3 或其他混合氣體等（可選） | |
| 最大處理尺寸 | Φ154mm | |
| 產品尺寸 | L520xW600xH420mm | |
| 包裝尺寸 | L700xW580xH490mm | |
| 時間設定 | 9999 秒 | |
| 真空泵 | 抽速約?8m3/h | |
| 氣體穩定時間 | 1?分鐘 | |
| 極限真空 | ≤1Pa | |
| 電源 | AC220V 50-60Hz，802（1202）502（802）W?所有配線符合《低壓配電設計規范
GB50054-95》、《低壓配電裝置及線路設計規范》等國標標準相關規定。 |
|
| 整機重量 | 38kg | |
